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    中小尺寸光罩

    主要应用领域: 1.IC/IC bumping用掩模版; 2.MEMS、LED、分立器件用掩模版; 3.光器件、光通讯用掩模版。

    1. 详细信息

    铬版精度js33333金沙线(Standard Size:6inch Quartz)

    精度/级别

    最高精度

    高精度

    中精度

    一般精度

    最小线宽/线缝

    0.75μm/0.75μm

    3μm/3μm

    5μm/5μm

    10μm/10μm

    线条精度

    ±0.05μm

    ±0.3μm

    ±0.5μm

    ±1.0μm

    总长精度

    ±0.25μm

    ±0.5μm

    ±0.75μm

    ±1.0μm

    图形位置精度

    ±0.25μm

    ±0.5μm

    ±0.75μm

    ±1.0μm

    套合精度

    ±0.25μm

    ±0.5μm

    ±0.75μm

    ±1.0μm

     

    铬版材料 (Photomask blank phate)

    材料

    Soda Lime GlassQuartz

    常规尺寸

    js33333金沙线3006,4009,5009,6012,6025,7012,9012,12"x12",14"x14"

    厚度

    1.5±0.2mm,2.3±0.2mm ,3.0±0.2mm ,4.8±0.2mm

    js33333金沙线6.35±0.2mm (QZ)

    铬膜

    js33333金沙线Low Reflectance Chrome

    光学密度 (λ=450nm)

    js33333金沙线Between Plates3.0±0.3 In Plate±0.3

    反射率 (λ=436nm)

    Between Plates10±5% In Plate±2%

     


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